编译/VR陀螺

2025 年 12 月 23 日，胶体量子点 (QD) 发光二极管在显示应用中具有巨大潜力，但如何在不降低其光学性能的前提下实现高分辨率图案化，一直是阻碍其商业化的主要挑战。

针对这一难题，由韩国釜山国立大学电气工程系 Jeongkyun Roh 副教授领导的研究团队，开发了一种通用的、无光刻胶且无损的直接光刻方法。该研究成果已于 2025 年 9 月 29 日发表在《Advanced Functional Materials》期刊上。

现有的喷墨打印和传统光刻工艺往往在分辨率或量子点性能上存在不足。Roh 教授团队没有将量子点暴露在苛刻的化学修饰中，而是设计了一种光交联混合发光层 (b-EML)。

• 原理：该方法将量子点与光交联空穴传输聚合物以及少量紫外线 (UV) 激活交联剂混合。
• 过程：将混合后的薄膜暴露在紫外光下，触发交联反应，形成坚固的聚合物网络，从而固定并保护量子点。随后使用溶剂即可显影出高分辨率的量子点图案。

Roh 博士表示：“我们开发了一种简单的混合方法，能够产生兼容苛刻显示应用要求的超高分辨率量子点图案。”

• 分辨率：该方法可提供超过 10,000 ppi (每英寸像素数) 的分辨率。
• 全彩显示：在 4 英寸晶圆上实现了超过 1,000 ppi 的红、绿、蓝 (RGB) 全彩像素，完全满足新兴显示器和近眼微型显示器的需求。
• 性能提升：研究表明，这种 b-EML 不仅保持了光学质量，还改善了电荷平衡，将外部量子效率 (EQE) 提高了 1.7 倍，并将器件运行寿命延长了近 3 倍。

这种超高分辨率图案化技术直接利好于 AR、VR 和智能眼镜所需的近眼微型显示器，因为此类设备通常需要 1000 ppi 以上的像素密度。此外，该技术还能与其他纳米晶体共图案化，为集成光电芯片和多功能显示器开辟了新途径。“我们的研究可以弥合当今实验室级 QD-LED 原型与未来商业化量子点显示器之间的差距。”Roh 博士总结道。

来源：techpowerup